半导体检测

　　行业挑战

　　超纯水（UPW）生产的一致性对微电子制造至关重要，并且有助于保护产品质量。除基本的超纯水监测以外，在如何对偏离趋势的结果迅速做出反应，并进行有效的故障排查和过程控制方面，微电子工厂也面临着挑战。其他关注领域包括，确保化学品纯度以改善工艺性能和批量生产，以及监测废水和回用水。

　　微电子制造商在生产中会遇到各种有机污染物，并经历各种挑战，包括：

　　●给水和高纯工艺化学品中的低ppm级浓度

　　●最终抛光前的ppt级浓度

　　●回用水和废水应用中复杂的样品基质

　　●监测硅胶等有害颗粒物的关键需求

　　解决方案

　　凭借Sievers总有机碳（TOC）分析仪和超纯水（UPW）硼分析仪，威立雅能够提供适合微电子制造工艺每一个步骤的分析解决方案。鉴于其宽广的分析范围和应用的多功能性，Sievers TOC分析仪可用于超纯水、工艺化学品纯度、回用水和废水处理监测。由于在二氧化硅之前，硼先从树脂床中泄漏出来，因此Sievers超纯水硼分析仪可通过检测硼浓度升高，实现二氧化硅的控制和树脂床的管理。

　　全面、灵活的监测选择

　　有两种常用于监测低浓度微电子应用中TOC的检测技术：膜电导率（Membrane Conductometric）和直接电导率（Direct Conductometric）。Sievers的产品涵盖了这两种技术，此外还提供适合于更复杂基质（如工艺化学品和废水）的湿化学氧化法。

　　我们可提供以下仪器和产品：

　　●Sievers M9e、M500e和500 RLe TOC分析仪采用Sievers膜电导率检测技术

　　 ◆Sievers膜电导率技术消除了大多数超纯水系统中所存在的卤代有机物和胺引起的假阳性和假阴性

　　●Sievers CheckPointe TOC传感器采用直接电导率检测技术

　　 ◆提供了一个适合于非关键超纯水监测点的经济型选择

　　 ◆用于快速诊断和故障排查的工具

　　●Sievers InnovOx TOC分析仪采用非色散红外（NDIR）检测和超临界水氧化（SCWO）技术

　　 ◆可以准确、可靠地检测浓酸、碱和纯化学品中的痕量有机物

　　 ◆可以监测废水和高达30%的卤水

　　应用需求及Sievers的解决方案

　　给水、超纯水和回用水系统监测

　　Sievers M9e在线和便携式TOC分析仪专为最复杂的水系统和应用而设计。该分析仪的分析范围为0.03 ppb至50 ppm，使用膜电导率技术，精确检测系统给水、反渗透产水和最终产水中的TOC浓度。使用可选配的Turbo模式，仅需4秒分析时间，SieversM9e分析仪是适合于回用水检测的理想故障排查工具。

　　Sievers M9e可实现：

　　●仪器与仪器之间的匹配

　　●在低TOC超纯水应用中低浓度检测的稳定性

　　●自动化的操作，如校准、验证和数据分析

　　●12个月校准稳定期

　　●先进的自动调零功能，适合超纯级的准确度和精度

　　化学品和废水纯度

　　为了实现工艺性能和优化批量生产，在过氧化氢、氢氧化钠、氢氧化铵、硫酸和其他蚀刻/电镀化学品等工艺化学品中，控制TOC至关重要。Sievers InnovOx TOC分析仪非常适用于此类监测以及废水和回用水中的有机物监测。

　　Sievers InnovOx有助于：

　　●工厂做出更明智的合规和处理决策

　　●可提供实时直接的碳检测，与间接的需氧量检测形成鲜明对比

　　●使用超临界水氧化（SCWO）技术处理复杂的基质

Sievers分析仪及其在微电子制造中的应用汇总

　　参考文献

　　1.Godec,Richard D.,“Monitoring and Controlling UPW Organic Nitrogen Contamination to Improve Immersion Photolithography Process Control.”Presented at ULTRAPURE WATER Confer-ence,Portland,OR,November 2011,Tall Oaks Publishing,Inc.

　　2.Godec,Richard D.,”The Performance Comparison of Ultrapure Water TOC Analyzers using an Automated Standard Addition Apparatus.”Published and copyrighted by Semiconductor Pure Water and Chemical Conference,2000 Proceedings.

　　3.Dunn R.,“New Analytical Technique Promotes Elimination of Silica in Feed,Steam and Condensate Systems.”